Odblaski

10. Odblaski

W obiektywie Fujifilm Fujinon XF16-55mm f/2,8 R LM WR producent pokrył soczewki na całej powierzchni powłoką Fujifilm HT-EBC (High Transmittance Electron Beam Coating), której zadaniem jest minimalizowanie występowania efektu blików i flar oraz zwiększenie ostrość i wyrazistość zdjęć. Ponadto, zastosowano także powłoki Nano-GI (Gradient Index to technologia formowania powierzchni obiektywu o nieregularnej nanostrukturze, która zmniejsza poziom odbicia na powierzchni). Powłoka Nano-GI zmienia współczynnik załamania światła między szkłem a powietrzem, co pozwala ograniczyć wspomniane bliki i efekt flary w przypadku światła padającego ukośnie.

Trzeba przyznać, że testowany obiektyw poradził sobie bardzo dobrze podczas fotografowania pod ostre światło. Na zdjęciach oczywiście wystąpią delikatne bliki i flary, jednak będą one na tyle małe, że bez problemu usuniemy je w procesie postprodukcji. Ponadto, w czasie fotografowania bezpośrednio pod słońce delikatnie spada kontrastowość obrazu, ale jeśli zastosujemy osłonę przeciwsłoneczną ten problem nie będzie występował.