19 stycznia Hasselblad ogłosił nazwiska zwycięzców prestiżowego konkursu Hasselblad Masters Award 2009. Zwycięzcami w poszczególnych kategoriach zostali:
- Up-and-Coming: Lyle Owerko, NYC, USA
- Wedding: Joao Carlos, NYC, USA
- Portrait: Claudio Napolitano, Miami, USA / Caracas, Venezuela
- Fashion: Dirk Rees, London, England
- Product: Mark Holthusen, San Francisco, USA
- Fine Art: Quentin Shih, Beijing, China
- Architecture: Stephan Zirwes, Stuttgart, Germany
- Landscape: Bang Peng, Hong Kong
- Editorial: Nina Berman, NYC, USA
- General: Mark Zibert, Toronto, Canada
W tym roku do konkursu swoje prace zgłosiło blisko 3000 fotografów (prawie dwukrotnie więcej niż 2008 roku). Jury, w którym znaleźli się m.in: Steve McCurry (USA), Anton Corbijn (Holandia) i Tim Flach (Wielka Brytania) podkreślało wysoki poziom nadesłanych prac. Ostatecznej selekcji dokonywali spośród setki zdjęć, z których wszystkie należały do utalentowanych twórców. Każdy ze zwycięzców będzie miał dostęp do flagowego modelu aparatu systemowego Hasselblada H4D. Ponadto Hasselblad wyda książkę "Masters Vol. 2-Emotion", w której znajdą się prace nagrodzonej dziesiątki, a w trakcie targów Photokina w Kolonii odbędzie się duża wystawa.
_1475239688.jpg)
_443908423.jpg)
_1094526942.jpg)
