Hasselblad Masters Award 2009

Up-and-Coming: Lyle Owerko, NYC, USA

19 stycznia Hasselblad ogłosił nazwiska zwycięzców prestiżowego konkursu Hasselblad Masters Award 2009. Nagrody przyznano w dziesięciu kategoriach:

• Up-and-Coming: Lyle Owerko, NYC, USA
• Wedding: Joao Carlos, NYC, USA
• Portrait: Claudio Napolitano, Miami, USA / Caracas, Venezuela
• Fashion: Dirk Rees, London, England
• Product: Mark Holthusen, San Francisco, USA
• Fine Art: Quentin Shih, Beijing, China
• Architecture: Stephan Zirwes, Stuttgart, Germany
• Landscape: Bang Peng, Hong Kong
• Editorial: Nina Berman, NYC, USA
• General: Mark Zibert, Toronto, Canada

Wszystkie nagrodzone prace znajdziecie w naszej galerii.