Newsletter
Hasselblad Masters Award 2009
0 
0 
20 Styczeń 2010
Artykuł na: minutę
Przyznano nagrody w międzynarodowym konkursie Hasselblad Masters Award 2009. Po raz dziewiąty dziesięciu fotografów zostało uhonorowanych tytułem Hasselblad Master. Kategorie, w których rywalizowali fotografowie to m.in: moda, ślub, portret i krajobraz. Wśród nagrodzonych znaleźli się twórcy ze Stanów Zjednoczonych, Niemiec, Chin, Kanady, Anglii i Wenezueli.
Up-and-Coming: Lyle Owerko, NYC, USA
- Up-and-Coming: Lyle Owerko, NYC, USA
- Wedding: Joao Carlos, NYC, USA
- Portrait: Claudio Napolitano, Miami, USA / Caracas, Venezuela
- Fashion: Dirk Rees, London, England
- Product: Mark Holthusen, San Francisco, USA
- Fine Art: Quentin Shih, Beijing, China
- Architecture: Stephan Zirwes, Stuttgart, Germany
- Landscape: Bang Peng, Hong Kong
- Editorial: Nina Berman, NYC, USA
- General: Mark Zibert, Toronto, Canada
Słowa kluczowe:
Komentarze
Powiązane artykuły
Wczytaj więcej (7)
Więcej w kategorii: Galerie
Więcej z tagiem: Hasselblad
Polecamy
